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原子层沉积系统(ALD)
应用。 NLD-3500(M)原子层沉积系统特点:NLD-3500是一款紧凑型独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的
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芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV
薄膜沉积PICOSUN™ALD-P300B型 技术参数:衬底尺寸和类型200mm晶圆 25片/批次(标准间距)150mm 晶圆 50片/批次(标准间距)100mm 晶圆 75片/批次(标准间
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芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列
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ALD原子层沉积设备-SVT
NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
应用。 NLD-3000原子层沉积系统特点:NLD-3000是一款独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计
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牛津仪器OPAL原子层沉积系统(ALD)
沉积工艺的一个范例。请与我们联系,讨论您的特定需求,我们专业的销售和应用工作人员将很高兴帮助您选择合适的沉积工艺和工具,以满足您的需求。 紧凑型开放式样品载入原子层沉积(ALD)系统 OpAL提供
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原子层沉积系统PICOSUN™P300S
原子层沉积系统PICOSUN™P300S 技术参数:衬底尺寸和类型zei大300mm单片晶圆高深宽比基底(zei大深宽比1:2500)工艺温度50 – 500°C标准工艺批量生产的平均工艺
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SAL1000G ALD原子层沉积系统
适配器安装尺寸W1000 x D700 x H900 SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够精确控制每个原子层的沉积
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薄膜沉积制备系统 芬兰PICOSUN™ R200系列
%TiN1.10 %CeO21.52 %Pt3.41 % 名称:原子层沉积系统(薄膜沉积制备系统) 品牌:PICOSUN 产地:芬兰 型号:PICOSUN™ R200系列 Picosun给做III-V
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PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备
医疗设备和植入物,生态包装材料,防潮和气密密封剂层,装饰性涂层以及疏水/亲水性涂层的生物活性表面功能化。 PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件
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